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東莞膜厚測(cè)試儀生產(chǎn)商

更新時(shí)間:2016-10-27      點(diǎn)擊次數(shù):2925
   膜厚測(cè)試儀測(cè)量精度高、穩(wěn)定性好,測(cè)量結(jié)果至μin,快速無(wú)損測(cè)量,測(cè)量時(shí)間短,10秒內(nèi)得出測(cè)量結(jié)果可定性、半定量和定量分析進(jìn)行貴金屬檢測(cè),如Aukarat評(píng)價(jià)材料鑒別和分類檢測(cè),材料和合金元素分析,元素光譜定性分析。對(duì)被測(cè)樣品發(fā)射一束一次X射線,樣品的原子吸收X射線的能量后被激發(fā)并釋放出二次X射線。每個(gè)化學(xué)元素會(huì)釋放出特定能量的X射線。通過(guò)測(cè)量這些釋放出的二次X射線的特征能量和強(qiáng)度,X射線分析儀就能夠?qū)Ρ粶y(cè)材料的鍍層厚度和成份提供定性和定量分析。
  膜厚測(cè)試儀高頻交流信號(hào)在測(cè)頭線圈中產(chǎn)生電磁場(chǎng),測(cè)頭靠近導(dǎo)體時(shí),就在其中形成渦流。測(cè)頭離導(dǎo)電基體愈近,則渦流愈大,反射阻抗也愈大。這個(gè)反饋?zhàn)饔昧勘碚髁藴y(cè)頭與導(dǎo)電基體之間距離的大小,也就是導(dǎo)電基體上非導(dǎo)電覆層厚度的大小。產(chǎn)品是利用螢光X射線得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的螢光X射線法原理。和螢光X射線分析裝置一樣被使用的X射線衍射裝置是利用散亂X射線得到物質(zhì)的結(jié)晶信息(構(gòu)造)。而透過(guò)X射線多用于拍攝醫(yī)學(xué)透視照片。另外也用于機(jī)場(chǎng)的貨物檢查。象這樣根據(jù)想得到的物質(zhì)信息而定X射線的種類。
  由于這類測(cè)頭專門(mén)測(cè)量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度,所以通常稱之為非磁性測(cè)頭。膜厚測(cè)試儀非磁性測(cè)頭采用高頻材料做線圈鐵芯,例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應(yīng)原理比較,主要區(qū)別是測(cè)頭不同,信號(hào)的頻率不同,信號(hào)的大小、標(biāo)度關(guān)系不同。與磁感應(yīng)測(cè)厚儀一樣,渦流測(cè)厚儀也達(dá)到了分辨率0.1um,允許誤差1%,量程10mm的高水平。

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